Abo
  • Services:
Anzeige
Ein NXE:3300B-System für EUV-Lithographie
Ein NXE:3300B-System für EUV-Lithographie (Bild: ASML)

Fertigungstechnik: EUV wird so schnell nicht serienreif

Ein NXE:3300B-System für EUV-Lithographie
Ein NXE:3300B-System für EUV-Lithographie (Bild: ASML)

Dem Fab-Ausrüster ASML zufolge reift die EUV-Lithographie, jedoch nicht so zügig wie erhofft. Ein Test bei Auftragsfertiger TSMC zeigte eine geringe Ausbeute, bald folgen aber bessere Belichtungssysteme.

Noch werden die Chips für Arbeitsspeicher, Grafikkarten und Prozessoren mit Immersionslithographie gefertigt. Künftig soll die EUV-Lithographie mit extremer ultravioletter Strahlung (daher Extreme Ultra Violet) verwendet werden, was dem Chipmaschinenausrüster ASML zufolge aber weiterhin länger dauert als einst erwartet (PDF). Alle großen Fertiger - Globalfoundries, Intel, Samsung und TSMC - planen zwar mit EUV, die Ausbeute an Wafern und Verlässlichkeit der Systeme muss aber noch zur Serienreife gebracht werden.

Anzeige
  • Erreichte und geplante EUV-Ziele (Bild: ASML)
  • EUV-Roadmap (Bild: ASML)
EUV-Roadmap (Bild: ASML)

ASML liefert neben Maschinen für den 10-nm-FinFET-Prozess seit Monaten auch Systeme für die EUV-Lithographie aus, beispielsweise an Intel und TSMC. Für das vergangene Jahr 2015 spricht der niederländische Ausrüster von sechs Maschinen des aktuellen Typs NXE:3350B. Für das laufende Jahr 2016 rechnet ASML mit sechs oder sieben Systemen, darunter modernere vom Typ NXE:3400B. Die sollen den Ausstoß erhöhen und besser verfügbar sein.

Ein vierwöchiger Test von TSMC mit einer NXE:3300B-Maschine ergab einen Durchsatz von rund 15.000 Wafern, was hochgerechnet sehr viel weniger ist, als ASMLs interne Durchläufe ergeben haben. Dort waren es mit einem NXE:3300B- über 1.000 und mit einem NXE:3350B-System über 1.250 Wafer pro Tag. 2016 möchte ASML den Durchsatz auf 1.500 Wafer pro Tag steigern und die Verfügbarkeit der Systeme von gut 70 auf konstant 80 Prozent erhöhen.

  • Erreichte und geplante EUV-Ziele (Bild: ASML)
  • EUV-Roadmap (Bild: ASML)
Erreichte und geplante EUV-Ziele (Bild: ASML)

Da die EUV-Lithographie unter anderem im Vakuum arbeiten muss, ist das Verfahren extrem aufwendig und teuer. Globalfoundries, Intel, Samsung und TSMC werden nach aktuellem Stand ihre 10FF-Technik noch mit Immersionslithographie durchführen, erst beim 7FF-Verfahren dürfte für einige Layer auf extreme ultraviolette Strahlung gesetzt werden. Spätestens der 5FF-Prozess soll mit EUV erfolgen, das ist aber vor allem eine Kostenfrage.

Erste Prozessoren mit 10FF-Technik (Cannonlake) plant Intel für 2017. Es folgt gemäß dem Tick-Tock-Prinzip wahrscheinlich mindestens eine zweite Generation bei gleicher Strukturbreite, eventuell noch ein Refresh.


eye home zur Startseite
Netzweltler 22. Jan 2016

In der Halbleitertechnik ist so eine Verzögerung schon bemerkenswert. Und eine Nachfolge...

ms (Golem.de) 21. Jan 2016

Da fehlt das Wort "extreme" vor ultra-violett, danke. EUV arbeitet mit 13,5 statt 193...



Anzeige

Stellenmarkt
  1. KNECHT Kellerbau GmbH über Tauster GmbH, Metzingen
  2. Magazino GmbH, München oder Home-Office
  3. über JobLeads GmbH, Stuttgart
  4. Power Service GmbH, Köln


Anzeige
Top-Angebote
  1. (u. a. Dark Souls III für 24,99€, Darkosuls II: Scholar of the First Sin für 8,99€, Bioshock...
  2. 283,88€ + 5,00€ Versand (USK 18)
  3. 288,88€

Folgen Sie uns
       


  1. Hardlight VR Suit

    Vibrations-Weste soll VR-Erlebnis realistischer machen

  2. Autonomes Fahren

    Der Truck lernt beim Fahren

  3. Selektorenaffäre

    BND soll ausländische Journalisten ausspioniert haben

  4. Kursanstieg

    Bitcoin auf neuem Rekordhoch

  5. Google-Steuer

    Widerstand gegen Leistungsschutzrecht auf EU-Ebene

  6. Linux-Kernel

    Torvalds droht mit Nicht-Aufnahme von Treibercode

  7. Airbus A320

    In Flugzeugen wird der Platz selbst für kleine Laptops knapp

  8. Urheberrecht

    Marketplace-Händler wegen Bildern von Amazon bestraft

  9. V8 Turbofan

    Neuer Javascript-Compiler für Chrome kommt im März

  10. Motion Control

    Kamerafahrten für die perfekte Illusion



Haben wir etwas übersehen?

E-Mail an news@golem.de


Anzeige
Limux: Die tragische Geschichte eines Leuchtturm-Projekts
Limux
Die tragische Geschichte eines Leuchtturm-Projekts
  1. Limux München prüft Rückkehr zu Windows
  2. Limux-Projekt Windows könnte München mehr als sechs Millionen Euro kosten
  3. Limux Münchner Stadtrat ignoriert selbst beauftragte Studie

Wacoms Intuos Pro Paper im Test: Weg mit digital, her mit Stift und Papier!
Wacoms Intuos Pro Paper im Test
Weg mit digital, her mit Stift und Papier!
  1. Wacom Brainwave Ein Graph sagt mehr als tausend Worte
  2. Canvas Dells Stift-Tablet bedient sich bei Microsoft und Wacom
  3. Intuos Pro Wacom verbindet Zeichentablet mit echtem Papier

Bundesnetzagentur: Puppenverbot gefährdet das Smart Home und Bastler
Bundesnetzagentur
Puppenverbot gefährdet das Smart Home und Bastler
  1. My Friend Cayla Eltern müssen Puppen ihrer Kinder zerstören
  2. Matoi Imagno Wenn die Holzklötzchen zu dir sprechen
  3. Smart Gurlz Programmieren lernen mit Puppen

  1. Re: Ich vermisse die Meckerer...

    FZ00 | 04:42

  2. Das hätte meine erste Million sein können :)

    derJimmy | 04:35

  3. Re: Bei 70cm dürfte der Sitz nur max. 2cm verbrauchen

    tingelchen | 03:40

  4. Re: Klasse, wie "open" dieses Open Source doch ist.

    ilovekuchen | 03:27

  5. Re: Mal im Ernst

    tingelchen | 03:17


  1. 18:02

  2. 17:43

  3. 16:49

  4. 16:21

  5. 16:02

  6. 15:00

  7. 14:41

  8. 14:06


  1. Themen
  2. A
  3. B
  4. C
  5. D
  6. E
  7. F
  8. G
  9. H
  10. I
  11. J
  12. K
  13. L
  14. M
  15. N
  16. O
  17. P
  18. Q
  19. R
  20. S
  21. T
  22. U
  23. V
  24. W
  25. X
  26. Y
  27. Z
  28. #
 
    •  / 
    Zum Artikel