EUV-Halbleiterfertigung: Wie Chips aus Plasma-Fladen entstehen

Weder ist das Nanometer-Rennen vorbei noch Moore's Law tot: Mit extrem ultravioletter Belichtung entsteht die nächste Generation von CPUs, GPUs und weiteren Chips. Von 5G-Smartphones bis zu Cloud-Servern wäre das ohne deutsche Laser und Spiegel und niederländische Systeme nicht möglich.

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Blick in einen EUV-Scanner mit EUV-Licht und Spiegeln
Blick in einen EUV-Scanner mit EUV-Licht und Spiegeln (Bild: ASML)

Samsung hat mit dem Exynos 9825 schon einen, Huawei mit dem Kirin 990 5G und Qualcomm mit dem Snapdragon 765 werden im Herbst nachziehen: Die Rede ist von einem Smartphone-Chip, der mit extrem kurzwelliger weil ultravioletter Strahlung im Vakuum hergestellt wird. Das Verfahren, kurz EUV (Extrem Ultra Violet), wird weltweit schon lange von allen großen Halbleiterfertigern vorangetrieben und stellt den mit Abstand größten technischen Wechsel seit über einem Jahrzehnt dar.


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