Chipmaschinen-Hersteller: ASML liefert sechs EUV-Belichtungsmaschinen an Intel aus

Die erste Ladung steht bereit: Der Chipausrüster ASML schickt im Herbst sechs EUV-Belichtungsmaschinen an Intel, weitere elf Systeme sollen in den kommenden Monaten folgen. Intel rüstet sich damit für die 7-nm-Fertigungstechnologie für Prozessoren und darüber hinaus.

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Die EUV-Lithographie folgt auf die Immersionslithographie.
Die EUV-Lithographie folgt auf die Immersionslithographie. (Bild: ASML)

ASML hat bekanntgegeben, sechs Belichtungsmaschinen an Intel ausgeliefert zu haben. Der niederländische Hersteller von Chipmaschinen rüstet Intel damit für die Belichtung von Siliziumscheiben (Wafern) mit extremer ultra-violetter Strahlung aus. Die EUV-Lithographie stellt in Zukunft das übliche Verfahren für besonders moderne Prozessoren, Systems-on-a-Chip und GPUs dar.

  • 2015 möchte ASML Fortschritte bei seinen EUV-Maschinen erreichen. (Bild: ASML)
  • Die Belichtungsrate der EUV-Wafer fällt bisher gering aus. (Bild: ASML)
  • Sechs Maschinen sollen an Intel gehen.  (Bild: ASML)
  • Eine EUV-Belichtungsmaschine des Typs NXE:3350B (Bild: ASML)
Sechs Maschinen sollen an Intel gehen. (Bild: ASML)
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Der im April 2015 abgeschlossene Vertrag zwischen ASML und Intel sieht eine Lieferung von mindestens 15 Belichtungsmaschinen des Typs NXE:3350B vor, welcher eine höhere Verarbeitungsgeschwindigkeit aufweist als der Vorgänger NXE:3300B. Die sechs neuen Systeme sollen im dritten Quartal 2015 bei Intel eintreffen. ASML plant mit den NXE:3350B-Maschinen eine Rate von rund 1.000 belichteten Wafern pro Tag - ein Bruchteil dessen, was mit Immersionslithographie vom Band läuft.

Um das EUV-Geschäft weiter voranzutreiben, hatte ASML bereits 2012 den Laser-Entwickler Cymer für knapp zwei Milliarden US-Dollar übernommen. Kürzlich eröffnete der niederländische Chipausrüster eine neue Fabrik für weitere EUV-Belichtungsmaschinen, das Werk soll 24 Systeme im Jahr 2017 ausstoßen. Vier NXE:3350B sollen beim Auftragsfertiger TSMC stehen, der damit zumindest vorerst einen Vorsprung vor Intel hätte.

  • 2015 möchte ASML Fortschritte bei seinen EUV-Maschinen erreichen. (Bild: ASML)
  • Die Belichtungsrate der EUV-Wafer fällt bisher gering aus. (Bild: ASML)
  • Sechs Maschinen sollen an Intel gehen.  (Bild: ASML)
  • Eine EUV-Belichtungsmaschine des Typs NXE:3350B (Bild: ASML)
Eine EUV-Belichtungsmaschine des Typs NXE:3350B (Bild: ASML)

Bis dato fertigt Intel seine Prozessoren mit Immersionslithographie, für das 7-nm-FinFET-Herstellungsverfahren gab sich Halbleiterchef Mark Bohr ebenfalls optimistisch: Man werde versuchen, Chips in diesem Prozess noch ohne EUV-Maschinen zu fertigen. Hintergrund sind die enormen Kosten, da die ultra-violette Bestrahlung im Vakuum erfolgen muss.

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Andere Hersteller nutzen die EUV-Technik bereits rudimentär, IBM zeigte einen ersten Testchip im 7-nm-Verfahren. Bis zur Serienreife dürfte es aber bei allen großen Fertigern bis mindestens 2017, eher 2018 dauern.

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