Chipmaschinen-Ausrüster: ASML widerspricht chinesischer Spionage
Der niederländische Hersteller von Belichtungssystemen für Mikrochips bestätigte einen Technologiediebstahl. Laut ASML hätten sich eigene Mitarbeiter durch den Verkauf von Software bereichern wollen.
Ein Bericht des niederländischen Financieele Dagblad hatte suggeriert, dass der Chipmaschinen-Ausrüster ASML von einem vom chinesischen Staat unterstützten Konkurrenten ausspioniert worden sei. In einem Statement wies ASML diese Darstellung zurück und erläuterte die Umstände des Technologiediebstahls.
Dem Hersteller zufolge hätten mehrere eigene Mitarbeiter des kalifornischen Standorts 2015 eine Software zur Optimierung von Masken zur Fertigung von Mikrochips entwendet. Diese sollte dann an Xtal weitergereicht werden, einen Kunden von ASML und eine Tochter von Dongfang Jingyuan, welche mit dem chinesischen Ministerium für Wissenschaft und Technologie in Verbindung stehen soll. Der Diebstahl wurde allerdings entdeckt, die - übrigens noch immer bei ASML angestellten - Mitarbeiter wurden schon 2016 angezeigt und 2018 verurteilt; Xtal ist mittlerweile bankrott.
ASML ist Marktführer für Belichtungssysteme und produziert Maschinen zur Immersionslithografie (DUV) sowie für extrem-ultraviolette Strahlung (EUV). Die Scanner nutzen unter anderem Laser von Trumpf und Spiegel von Zeiss, beide Unternehmen stammen aus Deutschland. Abnehmer der Twinscan genannten Scanner/Stepper sind alle großen Fertiger von Mikrochips wie fest verdrahteten Designs (ASICs), Grafikchips (GPUs), programmierbaren Schaltungen (FPGAs) und Prozessoren (CPUs), aber auch von Arbeitsspeicher (RAM) und NAND-Flash. Dazu gehören unter anderem Intel, Flash Forward (Toshiba zusammen mit Western Digital), Globalfoundries, Micron, Samsung, SK Hynix, TSMC und UMC.
Unter einer Maske verstehen Hersteller die Vorlage, auf Basis welcher die Silizium-Wafer belichtet werden, damit daraus die eigentlichen Chips entstehen.
keep your friends close but your enemies closer? Wenn diese Mitarbeiter freien Zugang...
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