ASML: Intel steckt 4,1 Milliarden Dollar in Chipmaschinenausrüster
Intel will 450-Millimeter-Wafer-Technologie und Belichtung mit Röngtenstrahlen (EUV) in der Serienfertigung von Halbleitern beschleunigen. Dafür übernimmt Intel 15 Prozent an ASML.
Intel investiert 4,1 Milliarden US-Dollar in ASML. Das niederländische Unternehmen ist der weltgrößte Anbieter von Lithographiesystemen für die Halbleiterindustrie. ASML wurde 1984 als Gemeinschaftsunternehmen von Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) und Philips gegründet. Intel betont, dass ASML Minderheitsbeteiligungen bis 25 Prozent zulässt.
Intel übernimmt für 3,1 Milliarden US-Dollar einen Anteil von 15 Prozent an ASML. Zusätzlich investiert Intel 1 Milliarde US-Dollar in den Bereich Forschung und Entwicklung von ASML. Für die weitere Verkleinerung der Strukturbreiten bei Prozessoren hatte Intel schon vor Jahren Kooperationen angekündigt.
Intel wird damit die Entwicklung von 450-Millimeter-Wafer-Technologie beschleunigen. Ziel sei, die Entwicklungszeit von Lithographiesystemen, die die Produktionstechnik unterstützen, auf zwei Jahre zu verkürzen. Brian Krzanich, Intels Chief Operating Officer, sagte: "Der Übergang von einem Waferformat zum nächsten bringt bisher 30 bis 40 Prozent Kosteneinsparungen." Der Übergang von 300-Millimeter- zu 450-Millimeter-Wafern und die Belichtung mit Röntgenstrahlen, Extreme Ultra Violet (EUV) genannt, in der Serienfertigung von Halbleitern soll beschleunigt werden. "Je schneller wir das tun, desto eher können wir von Verbesserung der Produktivität profitieren", sagte er.
Konkurrenten werden darin einen Versuch Intels sehen, sich die Vorherrschaft auch bei der Produktionsmethode zu sichern. ASML-Chef Eric Meurice erklärte daher, dass er hoffe, in den nächsten Wochen weitere Investitionen anderer Kunden ankündigen zu können. "Wir bekommen keinen gesonderten oder bevorzugten Zugang", sagte Krzanich in der Telefonkonferenz mit Analysten. Krzanich erklärte, dass Intel Chipmaschinenhersteller schon in der Vergangenheit finanziell unterstützt habe, aber niemals in so einem Volumen.
Intels Cheftechniker Justin Rattner sagte im September 2010, EUV-Lithographie "sei noch immer viel zu teuer". Intel forsche dennoch weiter an EUV, irgendwann seien kürzere Wellenlängen für die Belichtung sicher nötig. Bisher habe man aber vor allem durch Fortschritte in der hauseigenen Maskenfertigung - die manch andere Unternehmen ausgelagert haben - den Schritt zu Röntgen immer noch vermeiden können.
