IBM demonstriert 29,9-Nanometer-Strukturen

Bislang hatte die Industrie Strukturen von 32 Nanometer Größe als Untergrenze für die Massenproduktion von Chips mit Hilfe optischer Lithografie angepeilt, so IBM. Die aktuellen Forschungsergebnisse sollen zeigen, dass sich diese Grenze noch weiter nach unten verschieben lässt, bevor ein teurer und riskanter Umstieg auf neue Techniken wie EUV (Extreme Ultraviolet Light) unumgänglich wird.
Kleine Strukturgrößen erlauben es, Chips bei gleicher Größe mit mehr Funktionen und höherer Leistung zu fertigen. Der aktuelle Trend zu Multi-Core-Prozessoren zeigt dies plastisch. Doch langsam nähert sich die Industrie den physikalischen Grenzen, was die weitere Entwicklung vor neue Herausforderungen stellt.
IBM kooperiert mit JSR Micro und nutzte eine Testapparatur mit Namen NEMO, die mit zwei sich überschneidenden Laserstrahlen arbeitet, um helle und dunkle Interferenzmuster zu erzeugen, die kleinere Abstände ermöglichen als mit heute in der Chipherstellung genutzten Apparaten. Im nächsten Schritt müssen nun Materialien entwickelt werden, mit deren Hilfe sich die Forschungsergebnisse kommerziell nutzen lassen. Zudem wollen die Forscher die Technik weiterentwickeln, um damit noch kleinere Strukturgrößen herstellen zu können.