Abo
  • Services:

Intel auf dem Weg zum 30-Nanometer-Prozessor

Wichtige Meilensteine auf dem Weg zur Einführung der EUV-Lithographie erreicht

Zwei wichtige Meilensteine auf dem Weg zur Herstellung zukünftiger Mikroprozessoren unter Verwendung der EUV-Lithographie (Extreme Ultra Violet) will Intel jetzt erreicht haben. Das Unternehmen nahm die weltweit erste kommerzielle EUV-Lithographie-Anlage in Betrieb und richtete eine Pilotanlage zur Produktion von EUV-Masken ein. Die EUV-Technik, die Chips mit Strukturgrößen von 30 Nanometer ermöglichen soll, verlässt damit den Bereich der Forschung und tritt in die Entwicklungsphase.

Artikel veröffentlicht am ,

Mit der Lithographie werden Schaltkreise auf Computerchips abgebildet. Um dabei möglichst viele Transistoren auf einem Chip unterbringen zu können, müssen die Strukturen immer kleiner werden. Dieser Herausforderung will man mit der Entwicklung der EUV-Lithographie begegnen, denn die derzeitige Belichtungstechnik wird ihre Grenzen in wenigen Jahren erreicht haben. Intel will die neue EUV-Technik im Jahr 2009 in der Massenfertigung einsetzen.

Stellenmarkt
  1. Robert-Bosch-Krankenhaus GmbH, Stuttgart
  2. Robert Bosch GmbH, Stuttgart-Feuerbach

Durch die Verwendung des "EUV Micro Exposure Tool" (MET) und der Pilotanlage zur Herstellung von EUV-Masken will Intel Schaltkreise herstellen können, deren Strukturen nur rund 30 Nanometer klein sind. Die Testproduktion dient der Vorbereitung auf eine Auflösung von 15 Nanometern, die bei Eintritt der EUV-Lithographie in die Produktion benötigt werden, erklärt Intel. Die kleinsten Strukturen, die derzeit in den Fertigungsanlagen von Intel hergestellt werden, haben eine Größe von 50 Nanometern.

"Wir machen Fortschritte bei der Umsetzung der EUV-Lithographie in die Produktion für den 32-Nanometer-Prozess im Jahr 2009", so Ken David, Director of Components Research der Intel Technology and Manufacturing Group. "Die EUV-Technik wird uns helfen, auch im kommenden Jahrzehnt von den Vorteilen des Moorschen Gesetzes profitieren zu können."

Die EUV-Lithographie verwendet Licht mit einer Wellenlänge von nur noch 13,5 Nanometer statt einer Wellenlänge von 193 Nanometern, wie es heute verwendet wird. Allerdings hat die Technik noch immer mit einigen Herausforderungen zu kämpfen.

Intel will mit dem "EUV Micro Exposure Tool" (MET) wichtige Aufgaben im Rahmen der Entwicklung der EUV-Lithographie angehen. Dazu gehört die chemische Zusammensetzung des Fotolacks, der beim Bedrucken der Chips benötigt wird. Außerdem soll die Auswirkung von Maskendefekten beobachtet werden. Darunter sind Mängel in der Maske zu verstehen, mit der das Schaltkreismuster auf den Chip übertragen wird. Mit dem MET optimiert der Hersteller zudem die Variablen, die beim Druck der winzigen Strukturen in der Massenfertigung eine Rolle spielen.

Neben dem MET hat Intel eine Pilotanlage für die Herstellung von EUV-Masken installiert. Sie stellt die Grundlage für die zukünftige Maskenproduktion dar, die Intel intern vornehmen will. Die Pilotanlage koppelt EUV-spezifische Module an den bestehenden, betriebseigenen Maskenherstellungsprozess. Die Anlage verwendet damit das weltweit erste kommerzielle Werkzeug zur Herstellung von EUV-Masken.



Anzeige
Hardware-Angebote
  1. (reduzierte Überstände, Restposten & Co.)
  2. ab 399€
  3. 899€
  4. 119,90€

Ralf Kellerbauer 02. Aug 2004

Die Entscheidung ist bei AMD längst gefallen. AMD übernimmt viele Verfahren von IBM...

hallo 02. Aug 2004

natürlich ähnliches;) und wenn sie es nicht hinkriegen, wird halt eingekauft...

JTR 02. Aug 2004

nix Text, nur eine ernstgemeinte Frage


Folgen Sie uns
       


Shadow of the Tomb Raider - Golem.de live Teil 1

In Teil 1 im Livestream zu Shadow of the Tomb Raider gibt es zahlreiche Grafik-Menüs, schöne Screenshots und Laras Start in die Apokalypse.

Shadow of the Tomb Raider - Golem.de live Teil 1 Video aufrufen
Pixel 3 XL im Test: Algorithmen können nicht alles
Pixel 3 XL im Test
Algorithmen können nicht alles

Google setzt beim Pixel 3 XL alles auf die Kamera, die dank neuer Algorithmen nicht nur automatisch blinzlerfreie Bilder ermitteln, sondern auch einen besonders scharfen Digitalzoom haben soll. Im Test haben wir allerdings festgestellt, dass auch die beste Software keine Dual- oder Dreifachkamera ersetzen kann.
Ein Test von Tobias Költzsch

  1. Dragonfly Google schweigt zu China-Plänen
  2. Nach Milliardenstrafe Google will Android-Verträge offenbar anpassen
  3. Google Android Studio 3.2 unterstützt Android 9 und App Bundles

Campusnetze: Das teure Versäumnis der Telekom
Campusnetze
Das teure Versäumnis der Telekom

Die Deutsche Telekom muss anderen Konzernen bei 5G-Campusnetzen entgegenkommen. Jahrzehntelang von Funklöchern auf dem Lande geplagt, wollen Siemens und die Automobilindustrie nun selbst Mobilfunknetze aufspannen. Auch der öffentliche Rundfunk will selbst 5G machen.
Eine Analyse von Achim Sawall

  1. 5G Telekom hat ihr Mobilfunknetz mit Glasfaser versorgt
  2. Stadtnetzbetreiber 5G-Netz kann auch aus der Box kommen
  3. Achim Berg "In Sachen Gigabit ist Deutschland ein großer weißer Fleck"

Mate 20 Pro im Hands on: Huawei bringt drei Brennweiten und mehr für 1.000 Euro
Mate 20 Pro im Hands on
Huawei bringt drei Brennweiten und mehr für 1.000 Euro

Huawei hat mit dem Mate 20 Pro seine Dreifachkamera überarbeitet: Der monochrome Sensor ist einer Ultraweitwinkelkamera gewichen. Gleichzeitig bietet das Smartphone zahlreiche technische Extras wie einen Fingerabdrucksensor unter dem Display und einen sehr leistungsfähigen Schnelllader.
Ein Hands on von Tobias Költzsch

  1. Keine Spionagepanik Regierung wird chinesische 5G-Ausrüster nicht ausschließen
  2. Watch GT Huawei bringt Smartwatch ohne Wear OS auf den Markt
  3. Ascend 910/310 Huaweis AI-Chips sollen Google und Nvidia schlagen

    •  /