NANOCMOS: Auf dem Weg zu 22-Nanometer-Chips

EU fördert Forschung an neuen CMOS-Technologien

Die EU-Kommission will ein neues integriertes Forschungsprojekt mit der Bezeichnung NANOCMOS fördern, das die Entwicklungen bei Materialien, Prozessen, Baustein-Architekturen und Verbindungstechniken vorantreiben soll, um mit künftigen Halbleitern neue Komplexitäts- und Leistungsbereiche zu erreichen.

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Die an dem Projekt beteiligten Partner wollen bis 2005 die Machbarkeit der 45-nm-CMOS-Logik-Technologie demonstrieren. Gleichzeitig sollen entsprechende Forschungsaktivitäten für die nächsten Technologiegenerationen mit 32- und 22-nm-Strukturen durchgeführt werden. Nach dem heutigen Kenntnisstand werden diese Geometrien als die Grenzen des Machbaren mit jetzt verfügbaren Technologien angesehen.

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An dem Forschungsprojekt sind die drei größten europäischen Halbleiterhersteller Infineon, Philips und STMicroelectronics sowie die beiden größten europäischen Technologie-Forschungslabors, CEA Leti in Frankreich und IMEC in Belgien, beteiligt. Darüber hinaus arbeiten drei Forschungslabors der Fraunhofer Gesellschaft, acht Forschungslabors der CNRS (Frankreich) und ein Labor der Technischen Universität in Chemnitz sowie die Firmen Ion Beam Services (Frankreich), ISILTEC (Deutschland) und Magwel (Belgien) an dem Projekt. ACIES Europe (Frankreich) soll Management-Aufgaben in diesem Projekt übernehmen, aber auch für weitere Partner ist das Konsortium offen.

"Mit seinen ehrgeizigen Zielen und der Bündelung von Ressourcen stellt NANOCMOS eine einzigartige Chance für Europa dar, sich als Zentrum der Nanoelektronik zu etablieren. Dabei wird sowohl der wissenschaftlichen Forschung als auch den Interessen der einheimischen Industriepartner bei der Sicherung von Wettbewerbsvorteilen Rechnung getragen", so NANOCMOS-Projektleiter Guillermo Bomchil.

Die erste Phase des NANOCMOS-Projektes wird auf eine Laufzeit von 27 Monaten veranschlagt. Neben den 24 Millionen Euro von der EU-Kommission wollen die Partner in erheblichem Maße in eigene Forschungs- und Entwicklungsleistung investieren, um die gesteckten Ziele zu erreichen. Darüber hinaus wollen die beteiligten Partner einen Vorschlag für die zweite Phase des NANOCMOS-Projektes, die ab 2006 beginnen soll, bei der EU-Kommission einreichen. Diese Phase hat das Ziel, die Machbarkeit der 32- und 22-nm-Generationen zu zeigen.

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Außerdem will das Konsortium der MEDEA+-Organisation einen Vorschlag unterbreiten, ab 2006 mit der Integration und Validierung der 45-nm-Technologie in einer 300-mm-Wafer-Fertigung zu beginnen. Diese industrielle Fertigung soll in Crolles2 implementiert werden, einer gemeinsamen Pilotanlage von Motorola, Philips und STMicroelectronics.

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