Nvidia-Chips mit TSMCs 0,11-Mikron-Technik ab 2005?
Die 0,11-Mikron-Fertigungstechnik stellt im Grunde eine foto-lithografisch weiter geschrumpfte Version des 0,13-Mikron-Prozesses von TSMC dar. Erneut setzt TSMC dabei auf Fluorinated Silicate Glass (FSG) zur Isolation der einzelnen Transistoren. Obwohl die einzelnen Ergebnisse vom jeweiligen Chip-Design abhängen, soll der 0,11-Mikron-Prozess im Vergleich zum 0,13-Mikron-Prozess durch Transistor-Verbesserungen für etwas mehr Geschwindigkeit sorgen und geringere Stromaufnahme mit sich bringen.
Nvidia will TSMCs 0,11-Mikron-Prozess sowohl in künftigen High-End- als auch Mittelklasse-Grafikchips einsetzen. Die seit 2002 entwickelte und seit Dezember 2003 als fertig geltende TSMC-Technik soll zwar bereits eine produktionstaugliche Ausbeute ermöglichen, wird aber frühestens ab 1. Quartal 2005 für die Massenproduktion beliebiger Chips genutzt werden können. Lediglich die Low-Voltage-Version soll bereits für die Massenproduktion bereitstehen.
Beim GeForceFX hatte Nvidia dank des Umstiegs auf eine neue Grafikchip-Archtitektur und dem gleichzeitigen Wechsel von 0,15 auf 0,13 Mikron mit TSMC einige Probleme zu bewältigen. Man darf gespannt sein, ob sich Nvidia bei einer künftigen, auf 0,11 Mikron basierenden Produktgeneration noch einmal auf dieses Risiko einlässt – oder ob die neue TSMC-Technik weniger Probleme mit sich bringen wird. Ausschließlich auf TSMC setzen weder ATI noch Nvidia – während ATI noch UMC als Partner hat, setzt Nvidia mittlerweile auch auf IBM.
Konkrete Produkte und Termine für eine 0,11-Mikron-Fertigung nannte Nvidia – ebenso wie ATI – noch nicht. Zumindest die für das Jahr 2004 erwarteten Desktop-Grafikchips werden vermutlich weiter mit 0,13-Mikron-Technik gefertigt.
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