IBM und Infineon entwickeln 65-Nanometer-Technologien

IBM, Infineon und Chartered vereinbaren Entwicklunskooperation

IBM, Infineon und Chartered wollen gemeinsam Fertigungsprozesse in 65-Nanometer-Technologien entwickeln. Finanzielle Details zu der Vereinbarung wurden nicht bekannt gegeben.

Die Entwicklungsarbeiten sollen im kürzlich eröffneten 300-Millimeter-Entwicklungslabor von IBM in East Fishkill im US-Bundesstaat New York aufgenommen werden. In dem Advanced Semiconductor Technology Center bzw. ASTC 300 genannten Werk, das seit einem Monat in Betrieb ist, haben IBM und Chartered bereits 65-Nanometer-Wafer entwickelt. Etwa 200 Ingenieure der drei Unternehmen sollen dabei zusammenarbeiten, um branchenführende Fertigungstechnologien für Halbleiter der nächsten Generation zu definieren.

"Die Entwicklung von hochmodernen Halbleitertechnologien im Nano-Bereich wird für die gesamte Industrie eine immer größere Herausforderung", erläutert Dr. John E. Kelly III, Senior Vice President und Group Executive der IBM Technology Group. "Dank der Zusammenarbeit von IBM, Infineon und Chartered lässt sich die Entwicklung von sofort einsetzbaren Chip-Designs vorantreiben, was die Markteinführungszeiten und Kosten für unsere Kunden reduziert."

Chartered, IBM und Infineon planen die gemeinsame Realisierung einer modernen Foundry-Technologie für 65-Nanometer-Strukturen und Varianten für hohe Leistung und niedrige Leistungsaufnahme. Die Unternehmen erwägen auch die Erweiterung der Entwicklung bis hin zur 45-Nanometer-Technologie. Um Foundry-Kunden bei ihren Entwicklungstätigkeiten mit diesen Technologien zu unterstützen, haben sich die Unternehmen zudem zu einer Zusammenarbeit mit Drittanbietern bereit erklärt.

Jedes der drei Unternehmen kann die gemeinsam konzipierten Entwicklungsprozesse in die eigene Herstellungsumgebung integrieren. IBM und Chartered planen die Integration des zusammen entwickelten 65-Nanometer-Fertigungsprozesses in ihre jeweiligen 300-Millimeter-Produktionsstätten und die Unterstützung von Infineon bei der Deckung des externen Bedarfs an 65-Nanometer-Produkten.