Infineon expandiert in China
Das neue Unternehmen soll unter dem Namen Infineon Technologies Suzhou Co., Ltd, firmieren, während Infineon mit 72,5 Prozent die Mehrheit der Anteile an dem Joint-Venture halten wird.
Das neue Werk soll abhängig von dem Wachstum und der Entwicklung des weltweiten Halbleitermarktes in mehreren Stufen aufgebaut werden. Das geplante Gesamtinvestment beträgt über die nächsten 10 Jahre rund 1 Milliarde US-Dollar bei einem Eigenkapital von 333 Millionen US-Dollar. Dabei wird Infineon über die nächsten 5 Jahre insgesamt 241,4 Millionen US-Dollar als Eigenkapital einbringen, von CSVC kommen 91,6 Millionen US-Dollar. Damit seien die ersten Ausbaustufen gesichert, einschließlich des Baus der Halle, der entsprechenden Infrastruktur und des ersten kostenintensiven Equipments. Die folgenden möglichen Investitionen sind fast ausschließlich für das weitere Equipment vorgesehen.
Bei voller Auslastung sollen bei Infineon Suzhou über 1.000 Mitarbeiter beschäftigt werden.
"Mit dieser Partnerschaft bauen wir unsere Präsenz im Zukunftsmarkt China konsequent aus, können neue Kunden adressieren und zielen in China auf einen Marktanteil bei Speicherprodukten von 40 Prozent" , so Dr. Ulrich Schumacher, Vorstandsvorsitzender von Infineon. "In China wollen wir insgesamt in den nächsten fünf Jahren eine Top vier Position im Bereich Mikroelektronik mit einem Marktanteil von mehr als 10 Prozent einnehmen. Bis dahin werden wir hier rund 3.300 Mitarbeiter beschäftigen."
Der Baubeginn des Werks ist für Oktober 2003 vorgesehen, ab Mitte 2004 soll der Einbau des Equipments möglich sein. Die Volumenproduktion soll Anfang 2005 starten.