Intel investiert 2 Milliarden US-Dollar in Fab in New Mexico

300-mm-Wafer-Produktion auf 0,13-Micron-Prozessortechnik

Intel will in seiner Prozessorfabrikationsanlage in Rio Rancho, New Mexiko, zwei Milliarden US-Dollar investieren, um die als Fab 11X bezeichnete Produktionsalage in Betrieb zu nehmen. Diese soll zunächst mit der 0,13-Micron-Technik auf 300-mm-Wafern produzieren.

Artikel veröffentlicht am 24. Oktober 2002, 9:29 Uhr, Andreas Donath

Im Jahr 2003 soll Fab 11X dann auf 90-Nanometer-Produktionstechnik umgestellt werden. Fab 11X belegt eine Fläche von mehr als einer Million Quadratfuß, alleine der Reinraum hat eine Fläche von 200.000 Quadratfuß.

300-mm-Wafer sollen erhebliche Kostenvorteile gegenüber den noch häufig gebräuchlichen 200-mm-Wafern mit sich bringen, da damit die aufgeätzte effektive Prozessorschaltkreisfläche um mehr als 240 Prozent ausgeweitet werden kann. Außerdem soll so die Umwelt weniger belastet werden. Verglichen mit der 200-mm-Technik sollen 48 Prozent weniger flüchtige organische Verbindungen und 42 Prozent weniger Wasser und 40 Prozent weniger Energie aufgewendet werden müssen.