Halbleiterfertigung: Intels 7-Nanometer-Chips kommen 2017
Intels Roadmap für die Shrinks der Zukunft (Bild: Nico Ernst/Golem.de)

Halbleiterfertigung Intels 7-Nanometer-Chips kommen 2017

IDF

Nach Zweifeln an der weiteren Gültigkeit von Moore's Law hat Intel-Präsidentin Renee James diese in San Francisco abgewiesen. Bis 7 Nanometer steht die Roadmap, und auch danach soll die Verkleinerung weitergehen.

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Moore's Law geht's gut - so eine der Botschaften von Intel-Präsidentin Renee James, die zuvor jahrelang für die Softwareabteilung von Intel zuständig war. Zusammen mit CEO Brian Krzanich präsentierte der Chiphersteller auf der Eröffnungsrede des IDF 2013 die beiden Manager als starkes Führungsduo.

"Seit es das Gesetz gibt, wird Moore's Law alle 10 Jahre für tot erklärt" stellte James fest. Das sei aber noch nie eingetreten. Nachdem Krzanich zuvor schon den ersten 14-Nanometer-Chip Broadwell vorgeführt hatte, legte James dann eine Roadmap vor, die Intels Tick-Tock-Rhythmus fortschreibt.

Der sieht vor, dass alle zwei Jahre die Strukturbreite verkleinert werden muss, also erscheinen 2015 die 10-Nanometer-Bausteine, und 2017 kommen 7 Nanometer. An diesem Punkt endet die Grafik von Renee James, sie betonte aber: "Wir sehen auch schon darüber hinaus". Gemeint war damit offenbar, dass Intel schon einige Ideen hat, wie die Strukturen weiter verfeinert werden sollen.

Die führten aber weder Krzanich noch James näher aus. Vor allem fraglich ist dabei, wann Intel auf die teure Technik der EUV-Belichtung umsteigen muss. Dieses noch vor zehn Jahren als Zukunftstechnik gehandelte Verfahren, das mit Röntgenstrahlen arbeitet, hat sich inzwischen als viel zu teuer erwiesen. Irgendwann müssen die Chiphersteller aber darauf setzen, weil inzwischen fast alle Tricks ausgereizt sind.

Vielleicht erweisen sich bis dahin aber auch frühere Dogmen der Chipfertigung als unwahr. Die hatte James als Zitate während ihres Vortrages im Hintergrund eingeblendet, und so manche für unbrauchbar gehaltene Technik, die High-K-Metal-Gates und senkrechte Gates, sind inzwischen Serienstandard - nicht nur bei Intel.


Chuzam 11. Sep 2013

Röntgenstrahlung fängt bei 10 nm an, EUV-Litho nutzt 13,5 nm (ebenfalls laut Wikipedia...

virtual 11. Sep 2013

Bei den Mehrkosten des EUV-Verfahrens handelt es sich vorrangig um höhere...

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